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粗糙度儀測(cè)量平臺(tái)的應(yīng)用

2021-09-10 13:57:21 來(lái)源：寧波經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)凱諾儀器有限公司

粗糙度儀測(cè)量平臺(tái)的應(yīng)用
粗糙度儀常用于金屬表面的粗糙度檢測(cè)，主要分為手持式和臺(tái)式兩種。粗糙度儀常常與粗糙度測(cè)量平臺(tái)配合使用。本文主要介紹北京時(shí)代粗糙度測(cè)量平臺(tái)的產(chǎn)品特點(diǎn)以及在粗糙度儀上的應(yīng)用。

粗糙度儀測(cè)量平臺(tái)的應(yīng)用——粗糙度儀測(cè)量平臺(tái)TA610：

齒條升降，立柱可以隨意轉(zhuǎn)動(dòng)，用來(lái)測(cè)量不容易放置的工件，可提高測(cè)量精度

花崗巖平臺(tái)平面度：00級(jí)|平面公差值3μm

花崗巖平臺(tái)尺寸：400×250×70mm

垂直升降高度：270mm

垂直升降微調(diào)量：20mm

粗糙度儀測(cè)量平臺(tái)的應(yīng)用——粗糙度儀測(cè)量平臺(tái)TA620：

絲桿升降，平臺(tái)上設(shè)置V型槽，用來(lái)測(cè)量形狀較小的工件，可提高測(cè)量精度

花崗巖平臺(tái)平面度：00級(jí)|平面公差值3μm

花崗巖平臺(tái)尺寸：400×250×70mm

垂直升降高度：300±1mm

升降回程誤差：≤手輪旋轉(zhuǎn)1/6圈

粗糙度儀測(cè)量平臺(tái)的應(yīng)用——TA630微調(diào)平臺(tái)：

X—Y平面轉(zhuǎn)角，俯仰角。

調(diào)整范圍：X向 ±12.5mm Y向：±12.5mm

旋轉(zhuǎn)角度：粗調(diào) 360 微調(diào)±5 俯仰角度 0～5
粗糙度儀測(cè)量平臺(tái)的應(yīng)用——粗糙度儀測(cè)量平臺(tái)TA650（TR300磚用）
垂直方向上的升降高度：300±1mm微調(diào)由儀器上的可調(diào)支架完成

垂直方向上的旋轉(zhuǎn)角度：±45°

回程誤差：不大于手輪的1/6圈

平臺(tái)的平面度：00級(jí)|平面公差值3μm

平臺(tái)尺寸：600×420×80 mm

總高度：695 mm

粗糙度儀測(cè)量平臺(tái)與粗糙度儀：

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